Atomic Layer Deposition and Properties of HfO2-Al2O3 Nanolaminates

Näytä kaikki kuvailutiedot



Pysyväisosoite

http://hdl.handle.net/10138/246369

Lähdeviite

Kukli , K , Kemell , M , Castan , H , Duenas , S , Seemen , H , Rähn , M , Link , J , Stern , R , Ritala , M & Leskelä , M 2018 , ' Atomic Layer Deposition and Properties of HfO2-Al2O3 Nanolaminates ' , ECS Journal of Solid State Science and Technology , vol. 7 , no. 9 , pp. P501-P508 . https://doi.org/10.1149/2.0261809jss

Julkaisun nimi: Atomic Layer Deposition and Properties of HfO2-Al2O3 Nanolaminates
Tekijä: Kukli, Kaupo; Kemell, Marianna; Castan, Helena; Duenas, Salvador; Seemen, Helina; Rähn, Mihkel; Link, Joosep; Stern, Raivo; Ritala, Mikko; Leskelä, Markku
Tekijän organisaatio: Department of Chemistry
Mikko Ritala / Principal Investigator
Päiväys: 2018-09-06
Kieli: eng
Sivumäärä: 8
Kuuluu julkaisusarjaan: ECS Journal of Solid State Science and Technology
ISSN: 2162-8769
DOI-tunniste: https://doi.org/10.1149/2.0261809jss
URI: http://hdl.handle.net/10138/246369
Tiivistelmä: Nanocrystalline HfO2:Al2O3 mixture films and nanolaminates were grown by atomic layer deposition at 350 degrees C from metal chloride precursors and water. Formation of metastable HfO2 polymorphs versus monoclinic phase was affected by the relative amount and thickness of constituent oxide layers. The films exhibited saturative magnetization and charge polarization in externally applied fields at room temperature. The films also demonstrated resistive switching behavior with considerable window between low and high resistance states. (C) The Author(s) 2018. Published by ECS.
Avainsanat: HFO2 THIN-FILMS
ELECTRICAL-PROPERTIES
DIELECTRIC-PROPERTIES
HAFNIUM OXIDE
MEMORY
116 Chemical sciences
221 Nano-technology
Vertaisarvioitu: Kyllä
Tekijänoikeustiedot: cc_by
Pääsyrajoitteet: openAccess
Rinnakkaistallennettu versio: publishedVersion


Tiedostot

Latausmäärä yhteensä: Ladataan...

Tiedosto(t) Koko Formaatti Näytä
ECS_J._Solid_St ... nol._2018_Kukli_P501_8.pdf 798.9KB PDF Avaa tiedosto

Viite kuuluu kokoelmiin:

Näytä kaikki kuvailutiedot