Rahtu, Antti2010-11-252010-11-252002-09http://hdl.handle.net/10138/21065engJulkaisu on tekijänoikeussäännösten alainen. Teosta voi lukea ja tulostaa henkilökohtaista käyttöä varten. Käyttö kaupallisiin tarkoituksiin on kielletty.This publication is copyrighted. You may download, display and print it for Your own personal use. Commercial use is prohibited.Publikationen är skyddad av upphovsrätten. Den får läsas och skrivas ut för personligt bruk. Användning i kommersiellt syfte är förbjuden.Atomic Layer Deposition of High Permittivity Oxides : Film Growth and In Situ StudiesURN:ISBN:952-10-0646-3Doctoral dissertation