Atomic Layer Deposition of High Permittivity Oxides: Film Growth and In Situ Studies
Permalink
http://urn.fi/URN:ISBN:952-10-0646-3| Julkaisun nimi: | Atomic Layer Deposition of High Permittivity Oxides: Film Growth and In Situ Studies |
| Tekijä: | Rahtu, Antti |
| Muu tekijä: | Helsingin yliopisto, matemaattis-luonnontieteellinen tiedekunta, kemian laitos |
| Opinnäytteen taso: | Väitöskirja |
| URI: |
URN:ISBN:952-10-0646-3
http://hdl.handle.net/10138/21065 |
| Päiväys: | 2002-09 |
| Tekijänoikeustiedot: | Julkaisu on tekijänoikeussäännösten alainen. Teosta voi lukea ja tulostaa henkilökohtaista käyttöä varten. Käyttö kaupallisiin tarkoituksiin on kielletty. |
Tiedostot
Latausmäärä yhteensä: Ladataan...
| Tiedosto(t) | Koko | Formaatti | Näytä |
|---|---|---|---|
| atomicla.pdf | 515.5KB | Avaa tiedosto |