Atomic Layer Deposition of High Permittivity Oxides: Film Growth and In Situ Studies

Näytä kaikki kuvailutiedot

Permalink

http://urn.fi/URN:ISBN:952-10-0646-3
Julkaisun nimi: Atomic Layer Deposition of High Permittivity Oxides: Film Growth and In Situ Studies
Tekijä: Rahtu, Antti
Muu tekijä: Helsingin yliopisto, matemaattis-luonnontieteellinen tiedekunta, kemian laitos
Opinnäytteen taso: Väitöskirja
URI: URN:ISBN:952-10-0646-3
http://hdl.handle.net/10138/21065
Päiväys: 2002-09
Tekijänoikeustiedot: Julkaisu on tekijänoikeussäännösten alainen. Teosta voi lukea ja tulostaa henkilökohtaista käyttöä varten. Käyttö kaupallisiin tarkoituksiin on kielletty.


Tiedostot

Latausmäärä yhteensä: Ladataan...

Tiedosto(t) Koko Formaatti Näytä
atomicla.pdf 515.5KB PDF Avaa tiedosto

Viite kuuluu kokoelmiin:

Näytä kaikki kuvailutiedot